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3 헤드 콤팩트 데스크탑 2' 질화물 티타늄용 마그네트론 스퍼터링 코터

Desktop 2'' 마그네트론 스퍼터링 코터는 단층 또는 다층 강유전성 박막, 전도성 필름, 합금 필름 등을 준비하는 데 사용할 수 있습니다. 유사한 장비와 비교할 때 이중 타겟 마그네트론 스퍼터링 코터는 널리 사용될 뿐만 아니라 , 또한 작은 크기와 쉬운 조작이라는 장점이 있으며 실험실에서 재료 필름을 준비하는 데 이상적인 장비입니다.
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  • TN-VTC-3DC

  • TN

TN-VTC-3DC는 주로 다층 산화물 박막용 비금속 박막 코팅용으로 설계된 3헤드 2' RF 플라즈마 마그네트론 스퍼터링 시스템입니다. 차세대 산화물 박막 연구를 위한 가장 비용 효율적인 코터입니다. 금속 필름 증착 요청 시 DC 마그네트론 스퍼터링 옵션을 사용할 수 있으며, 3개의 DC, 1개의 RF/2개의 DC, 2개의 RF/1개의 DC 스퍼터링 헤드 구성이 가능합니다.

이 장치는 단층 또는 다층의 강유전성 박막, 전도성 필름, 합금 필름, 반도체 필름, 세라믹 필름, 유전체 필름, 광학 필름, 산화 필름, 하드 필름, PTFE 필름 등을 제조하는 데 사용할 수 있습니다.유사한 장비와 비교할 때, 이 3타겟 마그네트론 스퍼터링 코터는 널리 사용될 뿐만 아니라 크기가 작고 작동이 쉽다는 장점이 있으며 실험실에서 재료 필름을 준비하는 데 이상적인 장비입니다.

RF 플라즈마 마그네트론 스퍼터링 시스템 기술적인 매개변수

입력 전원
   

·단상 110VAC, 50/60Hz
  ·1000W(진공펌프 및 수냉식 냉각기 포함)

마그네트론 스퍼터링 헤드
   

·3개의 2' 마그네트론 스퍼터링   수냉식 재킷이 있는 헤드가 포함되어 있으며 석영에 삽입됩니다.   퀵 클램프를 통한 챔버
  ·RF 케이블 교체품은 CYKY에서 구매하실 수 있습니다.
  ·플랜지에 수동으로 작동하는 셔터가 1개 내장되어 있습니다.
  ·10L/min 디지털 제어식 순환수 냉각기 1개가 포함되어 있습니다.   스퍼터링 헤드 냉각용

스퍼터링 타겟

·대상 크기 요구 사항: 2'   직경 x 1/8' 최대 두께
  ·스퍼터링 거리 범위: 50 - 80mm 조정 가능
  ·스퍼터링 각도 범위: 0 - 25° 조정 가능
  ·2' 직경의 Cu 타겟과 Al2O3 타겟이 데모 테스트용으로 포함되어 있습니다.
  ·추가 비용으로 요청 시 다양한 산화물 2' 스퍼터링 타겟을 사용할 수 있습니다.   비용
  ·타겟 본딩을 위해 1mm 및 2mm 구리 백킹 플레이트가 포함되어 있습니다.

진공 챔버

·진공 챔버: 300 mm OD x  500   mm 높이, 스테인레스 스틸로 제작
  ·실링 플랜지: 274 mm Dia.고온 실리콘이 포함된 알루미늄으로 제작됨   O-링
  ·RF 방사선을 100% 차폐하기 위해 스테인레스 스틸 쉴드 케이지가 포함되어 있습니다.   챔버에서
  ·최대 진공 수준: 1.0E-5 Torr(옵션 터보 펌프 및 챔버 포함)   빵 굽기

샘플 홀더

·샘플 홀더는 회전 가능하며   스테인리스 스틸 커버와 세라믹 히터로 제작된 가열 가능한 스테이지
  ·샘플 홀더 크기: 50 mm Dia.을 위한.최대 2' 웨이퍼
  ·회전 속도: 균일한 코팅을 위해 1 - 10 rpm 조정 가능
  ·홀더 온도는 RT에서 최대 600°C까지 조정 가능합니다(600°C에서 최대 5분).   ℃;500°C에서 최대 2시간) 디지털 온도를 통해 정확도 +/- 1.0°C   제어 장치

진공펌프  

·KF40 진공포트가 내장되어 있습니다.   진공 펌프에 연결합니다.
  ·진공 레벨: 1.0E-2 Torr(듀얼 스테이지 기계식 펌프 포함)
  1.0E-3 Torr(옵션 터보 펌프 포함)

크기

540mm(가로) x 540mm(세로) x 1000mm(높이)

포장  무게

약 145kg

보증

평생 동안 1년 제한 보증   지원하다

사용자 정의 지원 여부


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Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.
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