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반도체 필름용 단일 타겟 DC 마그네트론 스퍼터링 코터

이 장비는 단층 또는 다층 강유전체막, 도전막, 합금막, 반도체막, 세라믹막, 유전체막, 광학막, 산화막, 경질막을 제조하는 데 사용할 수 있습니다.
가용성 상태:
수량:
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  • TN-MSP360G-1DC

  • TN

정밀 필름 준비를 위해 설계된 첨단 다목적 장비인 단일 타겟 DC 마그네트론 스퍼터링 코터를 소개합니다.탁월한 기능을 갖춘 이 코터는 강유전성, 전도성, 합금, 반도체, 세라믹, 유전체, 광학, 산화물 및 경질 필름을 포함한 다양한 응용 분야에서 단층 또는 다층 필름을 만드는 데 이상적입니다.


당사의 최첨단 코터는 최첨단 마그네트론 스퍼터링 기술을 활용하여 기판에 재료를 정확하고 균일하게 증착합니다.이를 통해 연구자와 제조업체는 우수한 필름 품질과 일관성을 달성하고 가장 복잡한 프로젝트의 요구 사항도 충족할 수 있습니다.


견고한 구조와 사용자 친화적인 인터페이스를 갖춘 당사의 단일 대상 DC 마그네트론 스퍼터링 코팅기는 비교할 수 없는 신뢰성과 작동 용이성을 제공합니다.고급 제어 시스템을 통해 필름 두께, 증착 속도, 타겟 활용도 등 증착 매개변수를 정밀하게 제어할 수 있어 사용자에게 비교할 수 없는 유연성과 정확성을 제공합니다.


고성능 진공 시스템을 갖춘 이 코터는 증착 공정 중에 깨끗하고 오염 없는 환경을 보장합니다.또한 효율적인 냉각 시스템은 최적의 온도 제어를 보장하여 민감한 재료에 대한 잠재적인 손상을 방지합니다.


세부 사항에 최대한 주의를 기울여 설계된 당사의 단일 대상 DC 마그네트론 스퍼터링 코팅기는 엄격한 사용을 견디고 탁월한 결과를 제공하도록 제작되었습니다.설치 공간이 작아 다양한 실험실이나 산업 환경에 적합하며, 에너지 효율적인 설계로 성능 저하 없이 운영 비용을 절감할 수 있습니다.


단일 타겟 DC 마그네트론 스퍼터링 코팅기에 투자하여 필름 준비에서 무한한 가능성을 열어보세요.뛰어난 기능과 ​​전문가급 성능을 갖춘 이 장비는 필름 증착 공정에서 탁월한 성과를 달성하고자 하는 연구원, 엔지니어 및 제조업체에게 완벽한 선택입니다.

하나의   타겟 DC 마그네트론 스퍼터링 코터

견본

테이블

전체 치수

Φ360mm

조정 가능한 RPM

1-20rpm 조절 가능

Magneto-c 제어

표적

대상 평면

원형 평면 타겟

스퍼터링 진공

0.1Pa ~ 3Pa

표적 직경

100~101.6mm

목표두께

3mm

절연전압

>2000V

케이블 사양

SL-16



목표 헤드 온도

≧ 65℃

진공

내벽 처리

전해연마

캐비티 크기

Φ500mm x 500mm

캐비티 재료

304 스테인레스 스틸

투시창

석영창, 직경 100mm

개폐방식

측면 개방

가스

제어

흐름 제어

질량 유량계, 측정 범위 0 ~   100SCCM

가스 종류

아르곤, 질소, 산소 및 기타 가스   ~이다

사용 가능

레귤레이터 밸브 유형

솔레노이드 레귤레이터

레귤레이터 밸브의 정적 상태

정상종료

선형성 측정

플러스 마이너스 1.5% FS

측정

반복 정확도

플러스 마이너스 0.2% FS

응답 시간 측정

8초 이하(T95)

작업 범위

압력차

0.3MPa

내압 몸체

3MPa

작동 주변 온도

(5 ~ 45) ℃

본체 재질

스테인레스 스틸 316L

본체의 누설률

1×10-8Pa.m3/s

파이프 피팅

1/4 '재킷 조인트

입력/출력 신호

0~5V

전원공급장치

±15V (±5%) (+15V 50mA, -15V 200mA)

전체 치수 mm

130(W) x 102(H) x 28(H)

통신 인터페이스

RS485 MODBUS 프로토콜

직류 전원

공급

전원공급장치

1500W





영화

두께

측정하다

NT

전력 요구 사항

DC:5V(±10%) 최대 전류 400mA

해결

±0.03Hz(5-6MHz), 0.0136A/측정(알루미늄)

측정 정확도

±0.5% 두께 +1번째

측정 주기

100mS ~ 1S/시간(설정 가능)

측정 범위

500,000A(알루미늄)

수정 주파수

6MHz

통신 인터페이스

RS-232/485 직렬 인터페이스

디스플레이 비트

8비트 LED 디스플레이

분자

펌프

분자 펌핑 속도

1200L/S

정격 속도

24000rpm

진동값

≤ 0.1 음

시작 시간

5 분

중단 시간

7분

냉각방식

수냉식 + 공냉식

냉각수 온도

37℃ 이하

냉각수 유량

1L/분

장착 방향

수직 ±5。

공기 추출 인터페이스

150CF

배기구

KF40

앞쪽

펌프

펌핑 속도

VRD-16

궁극의 진공

1Pa

전원공급장치

교류:220V/50Hz

모터 파워

400W

소음

DF 56dB

공기 추출 인터페이스

KF40

배기구

KF25

판막

게이트 밸브

게이트 밸브는 사이에 배치됩니다.   진공

챔버와 분자 펌프

컷오프 밸브

차단밸브가 사이에 설치되어 있습니다.

분자 펌프와 앞 무대

측면 배수 밸브

측면 배수 밸브가 사이에 설치됩니다.   그만큼

진공 챔버와 프론트 스테이지

블리더 밸브

전자기 블리더 밸브는 다음과 같습니다.   설치됨

진공 챔버에

전체의 궁극적인 진공

기계

DF 5X10-4Pa

테스트 대상

4인치 니켈 타겟 1개   지름

그리고 두께는 3mm


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