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금속 필름 준비를 위한 500W DC 전원 공급 장치를 갖춘 3개 타겟 마그네트론 스퍼터링 코터

DC Magnetron Sputtering Coater는 단층 또는 다층 강유전성 박막, 전도성 필름, 합금 필름, 반도체 필름, 세라믹 필름, 유전체 필름, 광학 필름, 산화 필름, 하드 필름, PTFE 필름 등을 제조하는 데 사용할 수 있습니다. .유사한 장비와 비교할 때, 이 3타겟 마그네트론 스퍼터링 코터는 널리 사용될 뿐만 아니라 크기가 작고 작동이 쉽다는 장점이 있으며 실험실에서 재료 필름을 준비하는 데 이상적인 장비입니다.

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모델：
TN--MSP300S-3DC
제품 브랜드：
TN

제품 설명

3개 타겟 마그네트론 스퍼터링 코터에는 3개 타겟이 장착되어 있어 다양한 재료를 동시에 증착할 수 있어 매우 다양하고 효율적입니다.코터는 DC 마그네트론 스퍼터링 원리로 작동하여 균일하고 고품질의 필름 증착을 보장합니다.

첨단 기술과 정밀 제어 시스템을 갖춘 이 마그네트론 스퍼터링 코터는 수 나노미터에서 마이크로미터까지 탁월한 막 두께 제어 기능을 제공합니다.조정 가능한 매개변수를 통해 밀도, 구성, 접착 강도와 같은 필름 특성을 맞춤화할 수 있습니다.

코터의 컴팩트한 디자인과 사용자 친화적인 인터페이스로 인해 작동 및 유지 관리가 쉽습니다.과전류, 과전압 보호 등 안전 기능을 탑재해 안전한 작업 환경을 보장합니다.

연구 개발, 학계 또는 산업 생산 분야에서 이 세 가지 타겟 마그네트론 스퍼터링 코터는 고품질 금속 필름을 준비하는 데 없어서는 안 될 도구입니다.다용성, 효율성 및 정밀한 제어 덕분에 전자, 광학, 에너지 저장 등을 포함한 광범위한 응용 분야에 적합합니다.

이 전문가급 코터에 투자하여 박막 증착의 무한한 가능성을 열어보세요.세 가지 타겟 마그네트론 스퍼터링 코터로 뛰어난 성능, 신뢰성 및 생산성을 경험해 보세요.

샘플 스테이지	크기	직경 140mm
	가열 온도	최대 500℃
	온도 정확도	±1℃
	회전 속도	1-20rpm 조절 가능
마그네트론 스퍼터링 헤드	수량	2'×3(1',2' 선택)
	냉각 모드	수냉식
	물 냉각기	유속 10L/min의 순환수 냉각기
진공 챔버	챔버 크기	직경300mm×300mm
	챔버 재료	스테인레스 스틸
	감시 창	직경 100mm
	개방 모드	상단 커버 열림
질량유량계	2개 채널;측정 범위 100SCCM;100SCCM(캔 고객 요구에 따라 맞춤화 가능)
진공 시스템	모델	TN-GZK103-A
	분자펌프	TN-600
	배압 펌프	로터리 베인 펌프
	궁극의 진공	1.0E-5Pa
	펌핑 인터페이스	CF160
	배기 인터페이스	KF40
	진공 측정	복합 진공 게이지
	전원 공급 장치	AC;220V 50/60Hz
	펌핑 속도	분자 펌프: 600L/S 회전 날개 펌프: 1.1L/초 포괄적인 가스 펌핑 성능: 진공 최대 20분 안에 1.0E-3Pa
전원 구성	수량	DC 전원 x2 RF 전원 공급 장치 x1
전원 구성	최대 출력 전력	DC 500W, RF 500W
기타 매개변수	전원 전압	AC220V,50Hz
	총 전력	4KW
	전체 크기	600mm×650mm×1280mm
	총 무게	약 300kg