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합금 필름용 스테인레스 스틸 챔버가 있는 고진공 이중 타겟 마그네트론 스퍼터링 코터

듀얼 타겟 DC 마그네트론 스퍼터링 코터는 단층 또는 다층 강유전성 박막, 도전막, 합금막 등을 제조하는 데 사용될 수 있습니다.유사한 장비와 비교하여 이중 타겟 마그네트론 스퍼터링 코터는 널리 사용될 뿐만 아니라 크기가 작고 작동이 쉽다는 장점이 있으며 실험실에서 재료 필름을 준비하는 데 이상적인 장비입니다.
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수량:
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  • TN-MSP300S-2DC

  • TN

합금 필름용 스테인레스 스틸 챔버를 갖춘 고진공 이중 타겟 마그네트론 스퍼터링 코터를 소개합니다.이 최첨단 코터는 다양한 산업 분야의 전문가들의 다양한 요구를 충족하도록 설계되었습니다.


이중 타겟 DC 마그네트론 스퍼터링 기능을 갖춘 이 코터를 사용하면 단층 또는 다층 강유전성 박막, 전도성 필름, 합금 필름 등을 정밀하게 준비할 수 있습니다.


견고한 스테인리스 스틸 챔버로 제작된 이 코터는 내구성과 수명을 보장하므로 코팅 요구 사항에 맞는 신뢰할 수 있는 선택입니다.


이 코터에 사용된 고진공 기술은 증착 공정을 위한 최적의 제어된 환경을 보장하여 고품질의 균일한 필름을 생성합니다.


고급 기능을 갖춘 당사의 이중 타겟 마그네트론 스퍼터링 코팅기는 탁월한 다양성과 효율성을 제공합니다.이중 타겟 시스템을 통해 다양한 재료를 동시에 증착할 수 있어 시간이 절약되고 생산성이 향상됩니다.


이 코터의 전문가급 성능은 사용자 친화적인 인터페이스로 보완되어 다양한 매개변수에 대한 쉬운 작동과 정밀한 제어가 가능합니다.


연구 개발 분야에 있든 산업 생산에 종사하든 관계없이 합금 필름용 스테인레스 스틸 챔버가 있는 고진공 이중 타겟 마그네트론 스퍼터링 코터는 우수한 코팅 결과를 달성하기 위한 이상적인 선택입니다.이 최첨단 코팅기에 투자하여 코팅 공정을 새로운 수준의 우수성으로 끌어올리십시오.

이중 타겟 DC 마그네트론 스퍼터링 코터 기술 매개변수:

상품명

이중 타겟 마그네트론 스퍼터링 코터

스퍼터링   전원 공급 장치

전원×2 전원:500W

진공 챔버

챔버 크기: Φ300mm×300mm, 챔버 재질: 스테인레스 스틸

시계 창: Φ100mm

그만큼   캐비티 오프닝 방법은 상단 오프닝을 채택하여 변경이 더 쉽습니다.   표적

마그네트론 스퍼터링   타겟 헤드

2개의 마그네트론 스퍼터링 헤드가 설치되어 있습니다.   기기에는 모두 수냉식 중간층이 장착되어 있습니다.   이는 냉각수를 통과하여 표적 물질을 냉각시킬 수 있습니다.둘   스퍼터링 헤드는 DC 전원 공급 장치와 연결되며 주요   스퍼터링 전도성

샘플 스테이지

견본   캐리어 크기: 직경 140mm(최대 4' 기판 배치 가능) 샘플   캐리어는 다음 속도로 회전할 수 있습니다: 1-20 rpm(조정 가능)   시료 운반체의 가열 온도는 500℃이고, 온도는   제어 정확도는 +/- 1.0°C입니다.

가스 유량 컨트롤러

거기   기기 내부에 2개의 질량 유량계가 설치되어 있으며 범위는 다음과 같습니다.   0-200sccm

진공펌프

갖추게 하는   원버튼 작동 80L/S를 사용하는 분자 펌프 시스템 세트

냉각 시스템

16L/분

전압

220V 50HZ


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