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합금 필름용 이중 타겟 DC 마그네트론 스퍼터링 코터

듀얼 타겟 DC 마그네트론 스퍼터링 코터는 단층 또는 다층 강유전성 박막, 도전막, 합금막 등을 제조하는 데 사용될 수 있습니다.유사한 장비와 비교하여 이중 타겟 마그네트론 스퍼터링 코터는 널리 사용될 뿐만 아니라 크기가 작고 작동이 쉽다는 장점이 있으며 실험실에서 재료 필름을 준비하는 데 이상적인 장비입니다.
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수량:
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  • TN-MSP500S-2DC

  • TN

합금 필름용 듀얼 타겟 DC 마그네트론 스퍼터링 코팅기를 소개합니다. 이는 모든 박막 코팅 요구 사항을 충족하는 최고의 솔루션입니다.정밀도와 효율성을 염두에 두고 설계된 이 최첨단 코터는 단층 또는 다층 강유전성 박막, 전도성 필름 및 합금 필름을 준비하는 데 적합합니다.


듀얼 타겟 DC 마그네트론 스퍼터링 기술을 갖춘 이 코터는 탁월한 코팅 균일성과 증착 제어를 보장하여 원하는 필름 특성을 최대한 정확하게 달성할 수 있습니다.균일한 두께, 높은 접착력 또는 뛰어난 전도성이 필요한 경우 당사의 코터는 언제나 뛰어난 결과를 제공합니다.


고급 기능을 갖춘 이 코터는 비교할 수 없는 다양성을 제공합니다.이중 타겟 구성을 통해 다양한 재료를 동시에 증착할 수 있어 맞춤형 특성을 지닌 복잡한 합금 필름을 생성할 수 있습니다.이러한 유연성은 전자, 광학, 재료 과학을 포함한 다양한 분야의 연구 개발에 대한 무한한 가능성을 열어줍니다.


당사의 듀얼 타겟 DC 마그네트론 스퍼터링 코팅기는 사용자 친화적인 인터페이스를 자랑하므로 박막 증착이 처음인 사용자도 쉽게 작동할 수 있습니다.직관적인 제어판을 통해 증착 속도, 기판 온도, 가스 흐름과 같은 매개변수를 정밀하게 조정할 수 있어 특정 용도에 맞는 최적의 코팅 조건을 보장합니다.

이중 타겟 DC 마그네트론 스퍼터링 코터 기술 매개변수:

상품명

이중 타겟 DC 마그네트론 스퍼터링 코터

스퍼터링   전원 공급 장치

DC 전원×2 DC 전원   공급량 : 500W

진공 챔버

챔버 크기: Φ300mm×300mm, 챔버 재질: 스테인레스 스틸

시계 창: Φ100mm

그만큼   캐비티 오프닝 방법은 상단 오프닝을 채택하여 변경이 더 쉽습니다.   표적

마그네트론 스퍼터링   타겟 헤드

2개의 마그네트론 스퍼터링 헤드가 설치되어 있습니다.   기기에는 모두 수냉식 중간층이 장착되어 있습니다.   이는 냉각수를 통과하여 표적 물질을 냉각시킬 수 있습니다.둘   스퍼터링 헤드는 DC 전원 공급 장치와 연결되며 주요   스퍼터링 전도성

샘플 스테이지

견본   캐리어 크기: 직경 140mm(최대 4' 기판 배치 가능) 샘플   캐리어는 다음 속도로 회전할 수 있습니다: 1-20 rpm(조정 가능)   시료 운반체의 가열 온도는 500℃이고, 온도는   제어 정확도는 +/- 1.0°C입니다.

가스 유량 컨트롤러

거기   기기 내부에 2개의 질량 유량계가 설치되어 있으며 범위는 다음과 같습니다.   0-200sccm

진공펌프

갖추게 하는   원버튼 작동 80L/S를 사용하는 분자 펌프 시스템 세트

냉각 시스템

16L/분

전압

220V 50HZ


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