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코팅 유리 웨이퍼용 분자 펌프 시스템을 갖춘 데스크탑 이중 타겟 마그네트론 스퍼터링 코터

Desktop Double Target 마그네트론 스퍼터링 코터는 단층 또는 다층 강유전성 박막, 전도성 필름, 합금 필름 등을 제조하는 데 사용할 수 있습니다.유사한 장비와 비교하여 이중 타겟 마그네트론 스퍼터링 코터는 널리 사용될 뿐만 아니라 크기가 작고 작동이 쉽다는 장점이 있으며 실험실에서 재료 필름을 준비하는 데 이상적인 장비입니다.

수량：
가용성 상태:





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모델：
TN-MSP210S-DC-D
제품 브랜드：
TN

제품 설명

본 장비는 이중 타겟 마그네트론 스퍼터링 코터로 전자, 광학, 특수 세라믹 등의 분야에서 금속 필름 제조에 사용할 수 있으며, 실험실에서 SEM 샘플을 준비하는 데에도 사용할 수 있습니다.

고진공 스테인레스 스틸 챔버, 전면 도어 개방 디자인 및 도어에 석영 관찰 창을 채택하여 실험 관찰 및 기록에 편리합니다.동시에 장비에는 회전식 가열 샘플 테이블이 장착되어 있어 필름 균일성과 필름 품질을 효과적으로 향상시킬 수 있습니다.상단 커버에는 배플 플레이트 세트가 설치되어 있으며 배플 플레이트를 회전시켜 두 타겟을 전환하여 다층 코팅을 실현할 수 있습니다.

이 장비는 고진공 분자 펌프 그룹과 함께 사용해야 합니다.사용자는 수입 브랜드의 소분자 펌프를 선택하여 설치 공간을 더욱 절약할 수 있습니다.

동시에 모델에는 필름 두께를 실시간으로 모니터링하고 실험 과정에 신뢰할 수 있는 매개변수를 제공할 수 있는 필름 두께 측정기 구성 요소가 장착될 수 있습니다.

이중 타겟 마그네트론 스퍼터링 코터 기술 매개변수:

샘플 스테이지	크기	100mm	난방	≤500℃
샘플 스테이지	회전 속도	1-20r/분	온도 조절	±1℃
마그네트론 스퍼터 헤드	수량	2' x2	냉각 모드	차가 워진 물
진공 챔버	크기	직경 210mm× 260mm	감시 창	40mm
진공 챔버	재료	SUS	오픈 모드	전면 개방
스퍼터 전원 공급 장치	DC 전원 공급 장치	1 세트	출력 파워	300W 이하
스퍼터 전원 공급 장치	출력 전압	600V 이하	응답 시간	<5ms
수냉식	탱크 용량	9L	흐름	10L/분
필름 두께 측정기	정확성	0.1옹스트롬	냉각 모드	수냉식
다른	전원 공급 장치	AC220V,50Hz	총 전력	4kw
분자 펌프 시스템	배압 펌프	로터리 베인 펌프	펌핑	1.1L/초
	2차 펌프	터보분자펌프(국내)	펌핑	600L/초
	추출 인터페이스	KF40	공기 배출구	KF16