TN-MSP180S-DC-AR
TN
이 장비는 석영 캐비티가 장착된 단일 타겟 마그네트론 스퍼터링 코터로, 증착된 필름의 고순도와 균일성을 보장합니다.이 코터는 마그네트론 스퍼터링 기술을 활용하여 막 두께와 구성을 정밀하게 제어할 수 있습니다.특히 귀금속 코팅 용도에 적합하며 우수한 접착력과 내구성을 제공합니다.오프셋 타겟 디자인을 갖춘 이 코터는 향상된 증착 효율성과 감소된 재료 낭비를 제공합니다.사용자 친화적인 인터페이스와 고급 제어 시스템을 통해 쉬운 작동과 정확한 매개변수 조정이 가능합니다.오프셋 타겟 단일 타겟 마그네트론 스퍼터링 코팅기(쿼츠 캐비티 포함)는 연구 및 산업 환경에서 다양한 박막 코팅 요구 사항을 충족하는 안정적이고 효율적인 솔루션입니다.
마그네트론 스퍼터링 코터 기술 매개변수:
TN-MSP180S-DC-GU | ||||
샘플 스테이지 | 크기 | Φ60mm | 회전 속도 | 0-20 조정 가능 |
마그네트론 스퍼터링 타겟 | 수량 | 2' x1 | ||
진공 챔버 | 챔버 크기 | Φ180mm x 150mm | 관찰 창 | 전방향 가시성 |
챔버 재료 | 고순도 석영 | 열리는 방법 | 상단 커버 분리 가능 | |
하부 플랜지 | 샘플 테이블 틸트 메커니즘 포함 및 회전 메커니즘 | |||
진공 시스템 | 기계식 펌프 | 2단 로터리 베인 펌프 | 펌핑 인터페이스 | KF16 |
분자펌프 | 터보분자 펌프 | 펌핑 인터페이스 | KF40 | |
진공 측정 | 저항 게이지 + 이온화 게이지 | 배기 인터페이스 | KF40 | |
궁극의 진공 | 1.0E-3Pa | 전원공급장치 | AC 220V 50/60Hz | |
펌핑 속도 | 백킹 펌프: 1.1L/s 분자 펌프: 60리터/초 | |||
전원 구성 | 수량 | DC 전원 공급 장치 x1 | 최대 출력 전력 | DC 전원 공급 장치 300W |
다른 | 공급 전압 | AC220V, 50Hz | Dimensions | 500mm x320mm x620mm |
총 전력 | 2kW |
이 장비는 석영 캐비티가 장착된 단일 타겟 마그네트론 스퍼터링 코터로, 증착된 필름의 고순도와 균일성을 보장합니다.이 코터는 마그네트론 스퍼터링 기술을 활용하여 막 두께와 구성을 정밀하게 제어할 수 있습니다.특히 귀금속 코팅 용도에 적합하며 우수한 접착력과 내구성을 제공합니다.오프셋 타겟 디자인을 갖춘 이 코터는 향상된 증착 효율성과 감소된 재료 낭비를 제공합니다.사용자 친화적인 인터페이스와 고급 제어 시스템을 통해 쉬운 작동과 정확한 매개변수 조정이 가능합니다.오프셋 타겟 단일 타겟 마그네트론 스퍼터링 코팅기(쿼츠 캐비티 포함)는 연구 및 산업 환경에서 다양한 박막 코팅 요구 사항을 충족하는 안정적이고 효율적인 솔루션입니다.
마그네트론 스퍼터링 코터 기술 매개변수:
TN-MSP180S-DC-GU | ||||
샘플 스테이지 | 크기 | Φ60mm | 회전 속도 | 0-20 조정 가능 |
마그네트론 스퍼터링 타겟 | 수량 | 2' x1 | ||
진공 챔버 | 챔버 크기 | Φ180mm x 150mm | 관찰 창 | 전방향 가시성 |
챔버 재료 | 고순도 석영 | 열리는 방법 | 상단 커버 분리 가능 | |
하부 플랜지 | 샘플 테이블 틸트 메커니즘 포함 및 회전 메커니즘 | |||
진공 시스템 | 기계식 펌프 | 2단 로터리 베인 펌프 | 펌핑 인터페이스 | KF16 |
분자펌프 | 터보분자 펌프 | 펌핑 인터페이스 | KF40 | |
진공 측정 | 저항 게이지 + 이온화 게이지 | 배기 인터페이스 | KF40 | |
궁극의 진공 | 1.0E-3Pa | 전원공급장치 | AC 220V 50/60Hz | |
펌핑 속도 | 백킹 펌프: 1.1L/s 분자 펌프: 60리터/초 | |||
전원 구성 | 수량 | DC 전원 공급 장치 x1 | 최대 출력 전력 | DC 전원 공급 장치 300W |
다른 | 공급 전압 | AC220V, 50Hz | Dimensions | 500mm x320mm x620mm |
총 전력 | 2kW |