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전이금속 디칼코게나이드용 PE-HPCVD(플라즈마 강화 하이브리드 물리화학적 기상 증착) 시스템

sio2 pecvd sio2 cvd 박막 코팅 플라즈마 강화 화학 기상 증착 pecvd 이중 가열 구역 그래핀 생산 및 재료 소결을 위한 CVD 시스템


 
가용성 상태:
수량:
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  • TN-O1200-50IIT

  • TN

본 제품은 1200℃ 플라즈마 강화 하이브리드 물리화학기상증착(HPCVD) 이중가열구역 회전관로 시스템입니다.장비에는 이중 가열 구역 관로, 텅스텐 필라멘트 증발원 세트, 플라즈마 발생기 세트 및 질량 유량계 시스템 세트가 포함됩니다.작동 원리는 증발원을 통해 가스 입구 끝에서 반응물을 증발시키고 이를 공기 흐름을 통해 관상로의 가열 영역으로 로드하여 CVD 반응을 수행하는 것입니다.동시에, 플라즈마 강화에 의해 반응이 촉진됩니다.무기 복합 분말의 열처리 및 표면 코팅 균일성에 적합합니다(예: 시료 표면에 전도성 코팅이 있는 리튬 이온 배터리 음극 분말 준비).

기술적인 매개변수:

둘   가열 구역 관상로

제품   모델

TN-O1200-50IIT

노   튜브 재료

높은   순도 석영

튜브   지름

50mm

노   튜브 길이

1200mm

노   챔버 길이

440mm

난방   구역 길이

200mm+200mm

운영 중   온도

0~1100℃

온도   제어 정확도

±1℃

온도   제어 모드

30   또는 50 세그먼트 프로그램 온도 제어

표시하다   방법

HD   풀 컬러 LCD 터치 스크린

씰링   방법

304   스테인레스 스틸 진공 플랜지

힘   공급

교류:   220V 50/60Hz 2.5kw

RF   출력 시스템

힘   범위

0~500W   조절할 수 있는

일하고 있는   빈도

13.56MHz+0.005%

일하고 있는   방법

마디 없는   산출

일치함   임피던스 모드

그것   일치할 수 있으며 글로우는 용광로 전체에 고르게 분포됩니다.   튜브

힘   안정

2W 이하

정상   작용하는 반사력

3W 이하

증폭됨   반사력

70W 이하

고조파   요소

≤-50dBc

전반적인   능률

≥70%

힘   요인

≥90%

공급   전압/주파수

단상   AC(187V~153V) 주파수 50/60Hz

제어   방법

내부   제어/PLC  아날로그 수량/RS232/485   의사소통

힘   보호 설정

DC   과전류 보호, 전력 ​​증폭기 과열 보호,   반사 전력 보호

냉각   방법

강요된   공기 냉각

불타는 듯한 빛깔   존

아래에   Ar, 무선 주파수 전원 공급 장치 및 코일이 글로우와 협력하여   용광로 튜브를 채우다

증발   보트

일하고 있는   온도

1300℃

증발   원천

텅스텐   와이어 바스켓, 테이퍼형 알루미나 도가니 옵션

열전대

S   열전대 유형

일하고 있는   현재의

≤30A

최대.   힘

500W

가스   배달 시스템

유량계

4채널   질량유량계

흐름   범위

MFC1   범위: 0~200sccm MFC2 범위: 0~200sccm

MFC3   범위: 0~500sccm MFC4 범위: 0~500sccm

동   가스 H2, CH4, N2, Ar.

측정   정확성

±1.5%FS

반복성

±0.2%FS

선형 정확도

±1%FS

응답 시간

4초 이하

업무 압력

-0.15Mpa~0.15Mpa

흐름   제어

LCD   터치 스크린 제어, 디지털 디스플레이, 각 채널 가스에는 니들 밸브가 포함되어 있습니다.   개별적으로 제어할 수 있습니다.

섭취   상호 작용

그것   1/4NPS 또는 6mm 외경 스테인레스 스틸 파이프와 연결 가능

콘센트   상호 작용

그것   1/4NPS 또는 6mm 외경 스테인레스 스틸 파이프와 연결 가능

연결   방법

더블   페룰 커넥터

운영 중   온도

5~45℃

가스   미리 섞은 것

갖추게 하는   가스 사전 혼합 장치 포함

배기가스   체계

제품   모델

CY-GZK103-A

분자   펌프

터보분자   펌프

역행   펌프

2단   회전 날개 펌프

펌핑   비율

분자   펌프: 600L/S

포괄적인   펌핑 성능: 30분 진공 도달 가능: 5×10E-3Pa

로타리   바람개비 펌프: 1.1L/S

궁극적인   진공

5×10E-4Pa

펌핑   포트

KF40

배기가스   상호 작용

KF16

진공   측정

화합물   진공 게이지


에: 
아래: 
제품문의
Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.
실험실 과학 기기 생산 전문 제조업체입니다.당사의 제품은 대학, 연구 기관 및 실험실에서 널리 사용됩니다.

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