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WO3(산화텅스텐) 스퍼터링 타겟

스퍼터링 타겟, 증발 소스 및 기타 증착 재료
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  • TN

고품질 증착 재료의 전형인 WO3(Tungsten Oxide) 스퍼터링 타겟을 소개합니다.전문적인 용도로 설계된 당사의 스퍼터링 타겟은 뛰어난 성능과 신뢰성을 제공하도록 세심하게 제작되었습니다.


최고의 정밀도로 제작된 당사의 WO3(산화텅스텐) 스퍼터링 타겟은 다양한 스퍼터링 및 증발 공정에 사용하기에 이상적입니다.이러한 타겟은 일관되고 균일한 필름 증착을 제공하도록 특별히 설계되어 박막 응용 분야에서 최적의 결과를 보장합니다.


당사의 WO3(산화텅스텐) 스퍼터링 타겟은 첨단 기술과 우수한 품질의 산화텅스텐 재료를 사용하여 제조됩니다.이는 최고 순도 수준을 보장하여 불순물을 최소화하고 필름 품질을 향상시킵니다.당사의 스퍼터링 타겟을 사용하면 필름 두께와 구성을 정밀하게 제어할 수 있어 증착 공정의 가장 까다로운 요구 사항도 충족할 수 있습니다.


스퍼터링 타겟 외에도 당사는 다양한 증발 소스 및 기타 증착 재료를 제공합니다.이러한 재료는 우수한 열 안정성과 다양한 증착 기술과의 호환성을 제공하기 위해 신중하게 선택되었습니다.열 증발, 전자 빔 증발 또는 마그네트론 스퍼터링에 필요한 재료가 무엇이든 당사의 포괄적인 선택을 통해 귀하의 특정 요구에 맞는 완벽한 솔루션을 찾을 수 있습니다.


박막 응용 분야에서 비교할 수 없는 성능, 신뢰성 및 일관성을 위해 WO3(텅스텐 산화물) 스퍼터링 타겟 및 증착 재료를 선택하십시오.귀하의 증착 공정을 새로운 수준의 우수성으로 끌어올리려면 당사의 전문가급 제품을 믿으십시오.

산화텅스텐(WO3) 사양:

재료 유형

텅스텐 산화물

상징

WO3

색상/외관

레몬 옐로우, 솔리드

녹는점(°C)

1,473

이론적인 밀도(g/cc)

7.16

Z 비율

**1.00

탁탁 소리

RF-R

채권의 종류

인듐, 엘라스토머

코멘트

가스가 배출될 때까지 부드럽게 예열하세요.여   산화물을 약간 감소시킵니다.


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Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.
실험실 과학 기기 생산 전문 제조업체입니다.당사의 제품은 대학, 연구 기관 및 실험실에서 널리 사용됩니다.

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