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텅스텐 카바이드(WC) 스퍼터링 타겟

스퍼터링 타겟, 증발 소스 및 기타 증착 재료
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  • TN

다양한 증착 공정의 까다로운 요구 사항을 충족하도록 설계된 최고 품질의 WC(텅스텐 카바이드) 스퍼터링 타겟을 소개합니다.다양한 스퍼터링 타겟, 증발 소스 및 기타 증착 재료를 통해 당사는 귀하의 박막 코팅 요구 사항에 이상적인 솔루션을 제공합니다.


최고의 정밀도와 고급 제조 기술을 사용하여 제작된 당사의 WC(텅스텐 카바이드) 스퍼터링 타겟은 탁월한 성능과 신뢰성을 제공합니다.이러한 타겟은 균일하고 효율적인 필름 증착을 보장하여 탁월한 코팅 품질을 제공하도록 특별히 설계되었습니다.


당사의 스퍼터링 타겟은 고온과 강렬한 플라즈마 환경을 견딜 수 있도록 세심하게 설계되어 장기간의 내구성과 일관된 성능을 보장합니다.탁월한 순도와 제어된 입자 구조를 통해 증착 공정을 정밀하게 제어할 수 있어 원하는 필름 특성을 최대한 정확하게 달성할 수 있습니다.


당사는 WC(텅스텐 카바이드) 스퍼터링 타겟 외에도 광범위한 증발 소스 및 기타 증착 재료를 제공합니다.이 제품들은 다양한 증착 기술과의 호환성을 보장하기 위해 신중하게 선택 및 제조되어 귀하의 박막 코팅 요구 사항에 맞는 완벽한 솔루션을 제공합니다.


품질과 고객 만족에 대한 약속으로 우리는 최고의 업계 표준을 충족하는 제품을 제공하기 위해 노력하고 있습니다.당사의 WC(텅스텐 카바이드) 스퍼터링 타겟은 광범위한 증착 재료와 함께 뛰어난 성능과 신뢰성으로 전 세계 연구원, 엔지니어 및 제조업체의 신뢰를 받고 있습니다.


당사의 WC(텅스텐 카바이드) 스퍼터링 타겟과 기타 증착 재료의 차이를 경험하고 박막 코팅 공정을 새로운 차원으로 끌어올리십시오.귀하의 증착 응용 분야에서 뛰어난 결과를 얻으려면 당사의 전문 지식을 신뢰하고 당사의 전문가급 제품을 사용하십시오.

텅스텐 카바이드(WC) 사양:

재료 유형

텅스텐 카바이드

상징

화장실

녹는점(°C)

2,860

이론적인 밀도(g/cc)

15.63

Z 비율

0.151

탁탁 소리

RF

최대 전력 밀도

(와트/제곱인치)

20*

채권의 종류

인듐, 엘라스토머


에: 
아래: 
제품문의
Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.
실험실 과학 기기 생산 전문 제조업체입니다.당사의 제품은 대학, 연구 기관 및 실험실에서 널리 사용됩니다.

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