TN
다양한 증착 공정의 까다로운 요구 사항을 충족하도록 설계된 고품질 이트륨(Y) 스퍼터링 타겟을 소개합니다.이 타겟은 뛰어난 성능과 신뢰성을 보장하기 위해 꼼꼼하게 제조되었으므로 광범위한 응용 분야에 이상적인 선택입니다.
당사의 이트륨 스퍼터링 타겟은 스퍼터링 용도로 특별히 설계되어 뛰어난 재료 활용도와 균일한 필름 증착을 제공합니다.우수한 순도와 구성으로 인해 박막 성장을 정밀하게 제어할 수 있어 일관된 결과를 보장하고 결함을 최소화할 수 있습니다.
스퍼터링 타겟 외에도 당사는 광범위한 증발 소스 및 기타 증착 재료를 제공합니다.이 제품은 첨단 기술을 사용하여 꼼꼼하게 제작되어 최적의 성능과 다양한 증착 시스템과의 호환성을 보장합니다.
엄격한 제조 표준을 준수하고 엄격한 품질 관리 조치를 수행하므로 품질에 대한 우리의 약속은 흔들리지 않습니다.이를 통해 당사 제품은 지속적으로 업계 사양을 충족하거나 초과하여 증착 공정에서 탁월한 결과를 얻을 수 있습니다.
연구, 개발 또는 대규모 생산에 관계없이 당사의 이트륨 스퍼터링 타겟, 증발 소스 및 기타 증착 재료는 박막 코팅 요구 사항을 위한 완벽한 선택입니다.최고 수준의 품질과 성능을 제공하는 당사의 전문 지식과 경험을 신뢰하여 귀하가 해당 분야의 선두에 머물 수 있도록 하십시오.
오늘 이트륨 스퍼터링 타겟 및 관련 증착 재료에 투자하고 경쟁업체와 차별화되는 성능과 신뢰성의 차이를 경험해 보십시오.
이트륨(Y) 사양:
재료 유형 | 이트륨 |
상징 | Y |
원자량 | 88.90585 |
원자 번호 | 39 |
색상/외관 | 은백색, 금속성 |
열 전도성 | 17.2W/mK |
녹는점(°C) | 1,522 |
열팽창 계수 | 10.6×10-6/K |
이론적인 밀도(g/cc) | 4.47 |
Z 비율 | 0.835 |
탁탁 소리 | RF, DC |
최대 전력 밀도 (와트/제곱인치) | 30* |
채권의 종류 | 인듐, 엘라스토머 |
코멘트 | 높은 Ta 용해도. |
다양한 증착 공정의 까다로운 요구 사항을 충족하도록 설계된 고품질 이트륨(Y) 스퍼터링 타겟을 소개합니다.이 타겟은 뛰어난 성능과 신뢰성을 보장하기 위해 꼼꼼하게 제조되었으므로 광범위한 응용 분야에 이상적인 선택입니다.
당사의 이트륨 스퍼터링 타겟은 스퍼터링 용도로 특별히 설계되어 뛰어난 재료 활용도와 균일한 필름 증착을 제공합니다.우수한 순도와 구성으로 인해 박막 성장을 정밀하게 제어할 수 있어 일관된 결과를 보장하고 결함을 최소화할 수 있습니다.
스퍼터링 타겟 외에도 당사는 광범위한 증발 소스 및 기타 증착 재료를 제공합니다.이 제품은 첨단 기술을 사용하여 꼼꼼하게 제작되어 최적의 성능과 다양한 증착 시스템과의 호환성을 보장합니다.
엄격한 제조 표준을 준수하고 엄격한 품질 관리 조치를 수행하므로 품질에 대한 우리의 약속은 흔들리지 않습니다.이를 통해 당사 제품은 지속적으로 업계 사양을 충족하거나 초과하여 증착 공정에서 탁월한 결과를 얻을 수 있습니다.
연구, 개발 또는 대규모 생산에 관계없이 당사의 이트륨 스퍼터링 타겟, 증발 소스 및 기타 증착 재료는 박막 코팅 요구 사항을 위한 완벽한 선택입니다.최고 수준의 품질과 성능을 제공하는 당사의 전문 지식과 경험을 신뢰하여 귀하가 해당 분야의 선두에 머물 수 있도록 하십시오.
오늘 이트륨 스퍼터링 타겟 및 관련 증착 재료에 투자하고 경쟁업체와 차별화되는 성능과 신뢰성의 차이를 경험해 보십시오.
이트륨(Y) 사양:
재료 유형 | 이트륨 |
상징 | Y |
원자량 | 88.90585 |
원자 번호 | 39 |
색상/외관 | 은백색, 금속성 |
열 전도성 | 17.2W/mK |
녹는점(°C) | 1,522 |
열팽창 계수 | 10.6×10-6/K |
이론적인 밀도(g/cc) | 4.47 |
Z 비율 | 0.835 |
탁탁 소리 | RF, DC |
최대 전력 밀도 (와트/제곱인치) | 30* |
채권의 종류 | 인듐, 엘라스토머 |
코멘트 | 높은 Ta 용해도. |
