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VC(바나듐 카바이드) 스퍼터링 타겟

스퍼터링 타겟, 증발 소스 및 기타 증착 재료
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  • TN

고품질 바나듐 카바이드(VC) 스퍼터링 타겟을 소개합니다. 스퍼터링 및 증착 요구 사항에 이상적인 선택입니다.수년간의 첨단 소재 제공 전문 지식을 바탕으로 탁월한 성능과 신뢰성을 보장하는 최고 수준의 제품을 제공합니다.


당사의 VC(바나듐 카바이드) 스퍼터링 타겟은 다양한 증착 공정의 요구 사항을 충족하도록 세심하게 제작되었습니다.스퍼터링 타겟, 증발 소스 또는 기타 증착 재료가 필요한 경우 당사 제품은 언제나 뛰어난 결과를 제공하도록 설계되었습니다.


정밀하게 제작된 당사의 바나듐 카바이드(VC) 스퍼터링 타겟은 탁월한 순도와 균일성을 제공하여 일관되고 효율적인 증착을 보장합니다.전문적인 톤으로 우리는 최고의 산업 표준을 충족하는 제품을 제공하는 데 자부심을 갖고 있으며 이를 통해 우수한 박막 코팅을 달성할 수 있습니다.


당사의 스퍼터링 타겟은 반도체 제조, 광학 코팅, 연구 개발을 포함한 광범위한 응용 분야에 맞게 맞춤화되었습니다.당사의 VC(바나듐 카바이드) 스퍼터링 타겟의 탁월한 품질은 향상된 필름 접착력, 탁월한 필름 밀도 및 향상된 필름 균일성을 보장합니다.


우리 회사에서는 성공적인 증착 공정을 위해 신뢰할 수 있고 내구성이 뛰어난 재료의 중요성을 이해하고 있습니다.이것이 바로 당사의 바나듐 카바이드(VC) 스퍼터링 타겟이 최첨단 기술을 사용하여 제조되고 엄격한 품질 관리 조치를 받는 이유입니다.일관된 성능을 제공하여 원하는 박막 특성을 달성할 수 있는 당사 제품을 신뢰할 수 있습니다.


탁월한 품질, 신뢰성 및 성능을 위해 당사의 바나듐 카바이드(VC) 스퍼터링 타겟을 선택하십시오.당사는 전문적인 전문성과 고객 만족을 위한 헌신을 통해 귀하의 모든 스퍼터링 및 증착 재료 요구 사항에 대한 신뢰할 수 있는 파트너입니다.당사의 최고급 제품으로 차이를 경험하고 박막 코팅을 새로운 차원으로 끌어올리십시오.

바나듐 카바이드(VC) 사양:

재료 유형

바나듐 카바이드

상징

VC

녹는점(°C)

2,810

이론적인 밀도(g/cc)

5.77

Z 비율

**1.00

탁탁 소리

RF

채권의 종류

인듐, 엘라스토머


에: 
아래: 
제품문의
Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.
실험실 과학 기기 생산 전문 제조업체입니다.당사의 제품은 대학, 연구 기관 및 실험실에서 널리 사용됩니다.

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