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전자빔 증착 필름용 바나듐(V) 스퍼터링 타겟

스퍼터링 타겟, 증발 소스 및 기타 증착 재료
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다양한 증착 공정의 요구 사항을 충족하도록 설계된 고품질 바나듐(V) 스퍼터링 타겟을 소개합니다.이러한 스퍼터링 타겟은 박막 증착 응용 분야에서 탁월한 성능을 발휘하도록 특별히 설계되었습니다.


정밀하게 제작된 당사의 바나듐(V) 스퍼터링 타겟은 반도체, 광학 및 태양 전지 제조를 포함한 광범위한 산업에서 사용하기에 이상적입니다.이 제품은 뛰어난 열 안정성을 보여 증착 공정 전반에 걸쳐 일관되고 안정적인 성능을 보장합니다.


당사의 스퍼터링 타겟은 첨단 기술을 사용하여 꼼꼼하게 제조되어 균일하고 조밀한 구조를 만들어냅니다.이를 통해 효율적인 재료 활용과 탁월한 필름 균일성이 가능해 생산성과 비용 효율성이 향상됩니다.


바나듐(V) 스퍼터링 타겟 외에도 당사는 광범위한 증발 소스 및 기타 증착 재료도 제공합니다.이 제품은 스퍼터링 타겟을 보완하도록 설계되어 고객에게 박막 증착 요구 사항에 맞는 완벽한 솔루션을 제공합니다.


품질에 대한 약속으로 당사 제품은 엄격한 테스트와 품질 관리 절차를 거쳐 최고의 산업 표준을 충족합니다.당사의 바나듐(V) 스퍼터링 타겟은 탁월한 성능, 내구성 및 수명을 보장합니다.


모든 박막 증착 요구 사항에 대해 당사와 협력하고 당사의 바나듐(V) 스퍼터링 타겟이 제공하는 신뢰성과 효율성을 경험해 보십시오.귀하의 응용 분야에 정확하고 균일한 박막 코팅을 달성하려면 당사의 전문 지식과 업계 최고의 제품을 믿으십시오.

바나듐(V) 사양:

재료 유형

바나듐

상징

V

원자량

50.9415

원자 번호

23

색상/외관

은빛 회색 금속성

열 전도성

30.7W/mK

녹는점(°C)

1,890

열팽창 계수

8.4×10-6/K

이론적인 밀도(g/cc)

6.11

Z 비율

0.53

탁탁 소리

DC

최대 전력 밀도

(와트/제곱인치)

50*

채권의 종류

인듐, 엘라스토머

코멘트

Wets Mo. 전자빔 증발식   영화를 선호함.


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Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.
실험실 과학 기기 생산 전문 제조업체입니다.당사의 제품은 대학, 연구 기관 및 실험실에서 널리 사용됩니다.

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