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탄탈륨(Ta) 스퍼터링 타겟

스퍼터링 타겟, 증발 소스 및 기타 증착 재료
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  • TN

다양한 산업의 다양한 요구를 충족하도록 설계된 프리미엄 탄탈륨(Ta) 스퍼터링 타겟을 소개합니다.당사의 스퍼터링 타겟은 증발 소스 및 기타 증착 재료와 함께 꼼꼼하게 제작되어 박막 증착 공정에서 탁월한 성능과 신뢰성을 보장합니다.


최고의 정밀도로 제작된 당사의 탄탈륨(Ta) 스퍼터링 타겟은 뛰어난 균일성, 순도 및 밀도를 제공하여 일관되고 고품질의 박막 코팅을 보장합니다.이러한 타겟은 엄격한 스퍼터링 조건을 견딜 수 있도록 설계되어 기판에 탄탈륨 필름을 효율적이고 제어된 방식으로 증착할 수 있습니다.


탄탈륨(Ta) 스퍼터링 타겟을 사용하면 반도체 장치, 광학 코팅, 자기 저장 매체 등과 같은 응용 분야에 정확하고 재현 가능한 박막 코팅을 얻을 수 있습니다.당사의 타겟은 고객의 특정 요구 사항을 충족할 수 있도록 다양한 모양, 크기 및 구성으로 제공되므로 다양한 스퍼터링 시스템과의 호환성을 보장합니다.


우리는 최고의 산업 표준을 충족하는 최고 수준의 제품을 제공하겠다는 약속에 자부심을 느낍니다.당사의 탄탈룸(Ta) 스퍼터링 타겟은 탁월한 성능, 수명 및 고객 만족을 보장하기 위해 엄격한 품질 관리 조치를 거칩니다.


당사와 협력하여 당사의 탄탈륨(Ta) 스퍼터링 타겟, 증발 소스 및 기타 증착 재료의 우수성을 경험해 보십시오.가장 까다로운 응용 분야의 요구 사항도 충족하도록 설계된 당사의 전문가급 제품으로 박막 증착 공정을 향상시키세요.당사의 전문 지식을 신뢰하고 증착 공정에서 새로운 가능성을 열어보십시오.

탄탈륨(Ta) 사양:

재료 유형

탄탈

상징

고마워

원자량

180.9479

원자 번호

73

색상/외관

그레이 블루, 메탈릭

열 전도성

57W/mK

녹는점(°C)

3,017

열 계수   확장

6.3×10-6/K

이론적인 밀도(g/cc)

16.6

Z 비율

0.262

탁탁 소리

DC

최대 전력 밀도

(와트/제곱인치)

100*

채권의 종류

인듐, 엘라스토머

코멘트

좋은 필름을 형성합니다.


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Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.
실험실 과학 기기 생산 전문 제조업체입니다.당사의 제품은 대학, 연구 기관 및 실험실에서 널리 사용됩니다.

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