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산화아연 ZnO(스퍼터링 타겟)

스퍼터링 타겟, 증발 소스 및 기타 증착 재료
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증착 재료 분야의 우수성의 전형인 산화아연(ZnO) 스퍼터링 타겟을 소개합니다.


최고의 정밀도와 최고 품질의 재료를 활용하여 제작된 당사의 산화아연 스퍼터링 타겟은 다양한 스퍼터링 응용 분야의 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다.


탁월한 순도와 균일성을 갖춘 이 스퍼터링 타겟은 박막 증착 공정에서 우수한 성능과 일관된 결과를 보장합니다.광학 코팅, 반도체 장치 또는 태양 전지용 박막이 필요한 경우 당사의 산화아연 스퍼터링 타겟은 귀하의 요구에 맞는 완벽한 선택입니다.


스퍼터링 응용 분야에만 국한되지 않고 당사의 산화아연 스퍼터링 타겟은 증발 소스로도 활용될 수 있어 증착 재료 영역에서 다양성을 더욱 확장할 수 있습니다.


최첨단 기술과 광범위한 연구를 바탕으로 당사의 산화아연 스퍼터링 타겟은 최적의 필름 품질, 높은 증착 속도 및 향상된 생산성을 보장합니다.


Zinc Oxide Sputtering Target에 투자하여 증착 재료의 우수성을 경험해 보세요.스퍼터링 타겟, 증발 소스 및 기타 증착 재료 요구 사항에 가장 적합한 제품만을 제공하겠다는 당사의 약속을 믿으십시오.

산화아연(ZnO) 사양:

재료 유형

산화 아연

상징

ZnO

색상/외관

흰색, 결정성 고체

녹는점(°C)

1,975

이론적인 밀도(g/cc)

5.61

Z 비율

0.556

탁탁 소리

RF-R

최대 전력 밀도

(와트/제곱인치)

20*

채권의 종류

인듐, 엘라스토머


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아래: 
제품문의
Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.
실험실 과학 기기 생산 전문 제조업체입니다.당사의 제품은 대학, 연구 기관 및 실험실에서 널리 사용됩니다.

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