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귀하의 정확한 증착 요구 사항을 충족하도록 설계된 최고급 퍼멀로이(NiFeMoMn) 스퍼터링 타겟을 소개합니다.스퍼터링 타겟, 증발 소스 및 기타 증착 재료의 선도적인 공급업체로서 당사는 탁월한 품질과 신뢰성을 제공하는 데 자부심을 갖고 있습니다.
최고의 정밀도로 제작된 당사의 퍼멀로이(NiFeMoMn) 스퍼터링 타겟은 박막 증착 공정에서 비교할 수 없는 성능을 제공합니다.이러한 타겟은 균일성, 고순도 및 탁월한 접착력을 보장하도록 특별히 설계되어 광범위한 응용 분야에 이상적입니다.
당사의 퍼멀로이(NiFeMoMn) 스퍼터링 타겟을 사용하면 탁월한 필름 품질과 제어를 달성하여 박막 장치의 성능과 신뢰성을 향상시킬 수 있습니다.반도체, 광학 코팅 또는 디스플레이 산업에서 근무하든 당사의 스퍼터링 타겟은 귀하가 요구하는 일관성과 정확성을 제공할 것입니다.
전문성과 우수성에 대한 우리의 약속은 우리 제품의 모든 측면에 반영되어 있습니다.각 퍼멀로이(NiFeMoMn) 스퍼터링 타겟은 최고의 산업 표준을 충족하는지 확인하기 위해 엄격한 품질 관리 조치를 거칩니다.우리는 귀하가 원하는 결과를 달성하는 데 있어 신뢰할 수 있는 증착 재료의 중요성을 이해하고 있으며 귀하의 기대를 뛰어넘기 위해 노력하고 있습니다.
당사와 협력하여 당사의 퍼멀로이(NiFeMoMn) 스퍼터링 타겟이 박막 증착 공정에서 만들 수 있는 차이를 경험해 보십시오.최고 품질의 제품을 제공하기 위한 당사의 전문성, 신뢰성 및 헌신을 믿으십시오.당사의 포괄적인 스퍼터링 타겟, 증발 소스 및 기타 증착 재료에 대해 자세히 알아보려면 지금 당사에 문의하십시오.
퍼멀로이(Ni/Fe/Mo/Mn) 사양:
재료 유형 | 퍼멀로이® † |
상징 | Ni/Fe/Mo/Mn |
녹는점(°C) | 1,395 |
이론적인 밀도(g/cc) | 8.7 |
강자성체 | 자성재료 |
Z 비율 | **1.00 |
탁탁 소리 | DC |
코멘트 | Ni 함량이 낮은 필름. |
귀하의 정확한 증착 요구 사항을 충족하도록 설계된 최고급 퍼멀로이(NiFeMoMn) 스퍼터링 타겟을 소개합니다.스퍼터링 타겟, 증발 소스 및 기타 증착 재료의 선도적인 공급업체로서 당사는 탁월한 품질과 신뢰성을 제공하는 데 자부심을 갖고 있습니다.
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퍼멀로이(Ni/Fe/Mo/Mn) 사양:
재료 유형 | 퍼멀로이® † |
상징 | Ni/Fe/Mo/Mn |
녹는점(°C) | 1,395 |
이론적인 밀도(g/cc) | 8.7 |
강자성체 | 자성재료 |
Z 비율 | **1.00 |
탁탁 소리 | DC |
코멘트 | Ni 함량이 낮은 필름. |