TN-PLZ180-II-DC-Q
TN
플라즈마 스퍼터링 코터(Plasma Sputtering Coater)는 다양한 기판에 금속, 합금, 산화물, 질화물 등의 박막을 증착하는데 필수적인 최첨단 장비입니다. 이 첨단 기술은 반도체 제조, 광학, 전자 등의 산업에서 일반적으로 사용됩니다.
이 코터는 타겟 재료에 고에너지 이온을 충돌시켜 원자를 방출한 다음 기판에 증착시키는 플라즈마 스퍼터링 공정을 활용합니다. 이를 통해 다양한 응용 분야에 필수적인 균일하고 고품질의 박막 코팅이 가능해집니다.
플라즈마 스퍼터링 코터는 매우 다재다능하며 실리콘 웨이퍼, 유리 및 세라믹을 포함한 광범위한 재료 및 기판과 함께 사용할 수 있습니다. 증착 공정을 정밀하게 제어하여 필름 두께, 구성, 구조를 맞춤화할 수 있습니다.
고급 기능과 기능을 갖춘 플라즈마 스퍼터링 코터는 다양한 응용 분야를 위한 고성능 박막 코팅을 만들려는 연구원, 엔지니어 및 제조업체에게 귀중한 도구입니다. 신뢰성, 효율성 및 정밀도는 재료 과학 및 기술 분야에서 없어서는 안 될 자산입니다.
목 | 세부 사항 |
제품 모델 | TN-PLZ180-II-DC-Q |
샘플 스테이지 | 직경 Φ60mm, 두 대상 위치 간 자동 전환 가능 |
DC 스퍼터링 헤드 | 2'x1 |
챔버 재료 | 고순도 석영 |
챔버 크기 | Φ180mm x 150mm |
진공펌프 | 로터리 베인 펌프 |
궁극의 진공 | 1.0E-1Pa |
진공 인터페이스 | KF16 진공 플랜지 |
가스 입구 | Ø 6.35 페룰 커넥터 |
전원 공급 장치 | AC 220V 50Hz |
총 전력 | 1.5KW/2KW(회전난방) |
플라즈마 스퍼터링 코터(Plasma Sputtering Coater)는 다양한 기판에 금속, 합금, 산화물, 질화물 등의 박막을 증착하는데 필수적인 최첨단 장비입니다. 이 첨단 기술은 반도체 제조, 광학, 전자 등의 산업에서 일반적으로 사용됩니다.
이 코터는 타겟 재료에 고에너지 이온을 충돌시켜 원자를 방출한 다음 기판에 증착시키는 플라즈마 스퍼터링 공정을 활용합니다. 이를 통해 다양한 응용 분야에 필수적인 균일하고 고품질의 박막 코팅이 가능해집니다.
플라즈마 스퍼터링 코터는 매우 다재다능하며 실리콘 웨이퍼, 유리 및 세라믹을 포함한 광범위한 재료 및 기판과 함께 사용할 수 있습니다. 증착 공정을 정밀하게 제어하여 필름 두께, 구성, 구조를 맞춤화할 수 있습니다.
고급 기능과 기능을 갖춘 플라즈마 스퍼터링 코터는 다양한 응용 분야를 위한 고성능 박막 코팅을 만들려는 연구원, 엔지니어 및 제조업체에게 귀중한 도구입니다. 신뢰성, 효율성 및 정밀도는 재료 과학 및 기술 분야에서 없어서는 안 될 자산입니다.
목 | 세부 사항 |
제품 모델 | TN-PLZ180-II-DC-Q |
샘플 스테이지 | 직경 Φ60mm, 두 대상 위치 간 자동 전환 가능 |
DC 스퍼터링 헤드 | 2'x1 |
챔버 재료 | 고순도 석영 |
챔버 크기 | Φ180mm x 150mm |
진공펌프 | 로터리 베인 펌프 |
궁극의 진공 | 1.0E-1Pa |
진공 인터페이스 | KF16 진공 플랜지 |
가스 입구 | Ø 6.35 페룰 커넥터 |
전원 공급 장치 | AC 220V 50Hz |
총 전력 | 1.5KW/2KW(회전난방) |